精密研磨抛光的质量是影响氮化硅轴承球性能和使用寿命的重要因素。

化学机械抛光：

化学机械抛光具有加工效率高、表面粗糙度低、加工劣化层小等技术特点。多用于各种功能陶瓷和工程陶瓷的表面精加工。在浮在液体介质中的纳米级软抛光颗粒在抛光颗粒与工件的接触点与相应的抛光液摩擦，产生高温高压。在很短的时间内。固相反应软化材料的表面。通过工件和抛光盘之间的机械摩擦，反应产物以 0.1 nm 级别的小单位被去除，从而产生非常光滑的表面。

在选择磨料时，一定要注意不要选择比被加工材料硬的磨料。 这是因为当硬质磨料起作用时，其机械抛光起主导作用，但会增加工件表面缺陷。 如今，工业上越来越多的氧化铈（CeO2）磨料用于氮化硅陶瓷球的化学机械抛光。 一是它可以直接与Si3N4发生化学反应，形成SiO2层。 另一个是它的硬度接近于SiO2。 由于硬度明显低于Si3N4，因此几乎不会对氮化硅球造成划痕等损伤。